触媒反応により生成されるラジカルを用いたSiへの低温の不純物ドーピング法の研究

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Material Type: 博士論文
Title: 触媒反応により生成されるラジカルを用いたSiへの低温の不純物ドーピング法の研究
Title Transcription: ショクバイハンノウニヨリセイセイサレルラジカルオモチイタ Si エノテイオンノフジュンブツドーピングホウノケンキュウ
Author/Editor: 早川太朗 [著]
Author Heading: 早川, 太朗ハヤカワ, タロウ
Publication, Distribution, etc.: [早川太朗]
Publication Date: [2012]
Publication Date (W3CDTF): 2012
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 北陸先端科学技術大学院大学
Date Granted: 平成24年3月23日
Date Granted (W3CDTF): 2012
Dissertation Number: 甲第713号
Degree Type: 博士 (マテリアルサイエンス)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Target Audience: 一般
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2012-J803
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 024031235
http://id.ndl.go.jp/bib/024031235
Bibliographic Record Category (NDL): 213