めっき添加剤のNi電析膜構造に及ぼす効果と密度汎関数法を用いた吸着状態に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: めっき添加剤のNi電析膜構造に及ぼす効果と密度汎関数法を用いた吸着状態に関する研究
• Title Transcription: メッキ テンカザイ ノ Ni デンセキ マク コウゾウ ニ オヨボス コウカ ト ミツド ハンカンスウホウ オ モチイタ キュウチャク ジョウタイ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 坂本健 [著]
• Author Heading: 坂本, 健 サカモト, タケシ
• Publication, Distribution, etc.: [坂本健]
• Publication Date: [2012]
• Publication Date (W3CDTF): 2012
• Extent: 1冊
• Alternative Title: Effects of additives on microstructure of Ni electroplating layer and DFT analysis of adsorption states of additives
• Degree grantor/type: 北海道大学
• Date Granted: 平成24年9月25日
• Date Granted (W3CDTF): 2012
• Dissertation Number: 甲第10653号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2012-M73
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 024189104; http://id.ndl.go.jp/bib/024189104
• Bibliographic Record Category (NDL): 213