ECRスパッタ法によるHfN/HfSiON構造のin-situ形成プロセスと3次元ゲートデバイス応用に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: ECRスパッタ法によるHfN/HfSiON構造のin-situ形成プロセスと3次元ゲートデバイス応用に関する研究
Title Transcription: ECR スパッタホウニヨル HfN / HfSiON コウゾウノ in-situ ケイセイプロセスト 3ジゲンゲートデバイスオウヨウニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 佐野貴洋 [著]
Author Heading: 佐野, 貴洋サノ, タカヒロ
Publication, Distribution, etc.: [佐野貴洋]
Publication Date: [2012]
Publication Date (W3CDTF): 2012
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 東京工業大学
Date Granted: 平成24年3月26日
Date Granted (W3CDTF): 2012
Dissertation Number: 甲第8800号
Degree Type: 博士(工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Target Audience: 一般
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2012-Q173
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 024379009
http://id.ndl.go.jp/bib/024379009
Bibliographic Record Category (NDL): 213