ECRスパッタ法によるHfN/HfSiON構造のin-situ形成プロセスと3次元ゲートデバイス応用に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: ECRスパッタ法によるHfN/HfSiON構造のin-situ形成プロセスと3次元ゲートデバイス応用に関する研究
• Title Transcription: ECR スパッタホウ ニ ヨル HfN / HfSiON コウゾウ ノ in-situ ケイセイ プロセス ト 3ジゲン ゲート デバイス オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 佐野貴洋 [著]
• Author Heading: 佐野, 貴洋 サノ, タカヒロ
• Publication, Distribution, etc.: [佐野貴洋]
• Publication Date: [2012]
• Publication Date (W3CDTF): 2012
• Extent: 1冊
• Degree grantor/type: 東京工業大学
• Date Granted: 平成24年3月26日
• Date Granted (W3CDTF): 2012
• Dissertation Number: 甲第8800号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2012-Q173
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 024379009; http://id.ndl.go.jp/bib/024379009
• Bibliographic Record Category (NDL): 213