Studies on fabrication of silicon thin films using plasma enhanced chemical vapor deposition and behaviors of radicals

• Material Type: 博士論文
• Title: Studies on fabrication of silicon thin films using plasma enhanced chemical vapor deposition and behaviors of radicals
• Author/Editor: Abe Yusuke [著]
• Author Heading: 阿部, 祐介 アベ, ユウスケ
• Publication, Distribution, etc.: [Abe Yusuke]
• Publication Date: [2013]
• Publication Date (W3CDTF): 2013
• Extent: 1冊
• Alternative Title: プラズマ化学気相堆積法を用いたシリコン薄膜の作製およびラジカルの挙動に関する研究 プラズマ カガク キソウ タイセキホウ オ モチイタ シリコン ハクマク ノ サクセイ オヨビ ラジカル ノ キョドウ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 名古屋大学
• Date Granted: 平成25年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 2013
• Dissertation Number: 甲第10160号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2013-B788
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 024664388; http://id.ndl.go.jp/bib/024664388
• Bibliographic Record Category (NDL): 213