Studies on reaction kinetics of photoresist for plasma etching processes by using reactive beam irradiation

• Material Type: 博士論文
• Title: Studies on reaction kinetics of photoresist for plasma etching processes by using reactive beam irradiation
• Author/Editor: Takeuchi Takuya [著]
• Author Heading: 竹内, 拓也 タケウチ, タクヤ
• Publication, Distribution, etc.: [Takeuchi Takuya]
• Publication Date: [2013]
• Publication Date (W3CDTF): 2013
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 反応性ビーム照射を用いたプラズマエッチングプロセス中のフォトレジストの反応過程に関する研究 ハンノウセイ ビーム ショウシャ オ モチイタ プラズマ エッチング プロセスチュウ ノ フォトレジスト ノ ハンノウ カテイ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 名古屋大学
• Date Granted: 平成25年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 2013
• Dissertation Number: 甲第10161号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2013-B789
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 024664399; http://id.ndl.go.jp/bib/024664399
• Bibliographic Record Category (NDL): 213