Application of boron cluster ion implantation to pMOSFET

• Material Type: 博士論文
• Title: Application of boron cluster ion implantation to pMOSFET
• Author/Editor: Yoji Kawasaki [著]
• Author Heading: 川崎, 洋司 カワサキ, ヨウジ
• Publication, Distribution, etc.: [Yoji Kawasaki]
• Publication Date: [2012]
• Publication Date (W3CDTF): 2012
• Extent: 1冊
• Alternative Title: クラスタボロン注入のpMOSFETへの適用に関する研究 クラスタ ボロン チュウニュウ ノ pMOSFET エ ノ テキヨウ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 広島大学
• Date Granted: 平成24年3月2日
• Date Granted (W3CDTF): 2012
• Dissertation Number: 甲第5721号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2013-G85
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 024914583; http://id.ndl.go.jp/bib/024914583
• Bibliographic Record Category (NDL): 213