Monte Carlo simulation of forming nano-sized dot arrays by electron beam lithography

• Material Type: 博士論文
• Title: Monte Carlo simulation of forming nano-sized dot arrays by electron beam lithography
• Author/Editor: Hui Zhang [著]
• Author Heading: 張, 慧 チョウ, エ
• Publication, Distribution, etc.: [Hui Zhang]
• Publication Date: [2013]
• Publication Date (W3CDTF): 2013
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 電子線描画法を用いたナノドット列形成のモンテカルロシミュレーション デンシセン ビョウガホウ オ モチイタ ナノドット レツ ケイセイ ノ モンテカルロ シミュレーション
• Degree grantor/type: 群馬大学
• Date Granted: 平成25年3月22日
• Date Granted (W3CDTF): 2013
• Dissertation Number: 工博甲第464号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2013-J85
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 024943442; http://id.ndl.go.jp/bib/024943442
• Bibliographic Record Category (NDL): 213