LSI配線のRC特性改善に向けた銅配線プロセスインテグレーション技術に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: LSI配線のRC特性改善に向けた銅配線プロセスインテグレーション技術に関する研究
Title Transcription: LSI ハイセンノ RC トクセイカイゼンニムケタドウハイセンプロセスインテグレーションギジュツニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 田上政由 [著]
Author Heading: 田上, 政由タガミ, マサヨシ
Publication, Distribution, etc.: [田上政由]
Publication Date: [2015]
Publication Date (W3CDTF): 2015
Extent: 1冊
Alternative Title: Studies on process integration technique for RC reduction of copper/low-k interconnects on ULSIs
Degree grantor/type: 東北大学
Date Granted: 平成27年3月25日
Date Granted (W3CDTF): 2015
Dissertation Number: 甲第16423号
Degree Type: 博士(工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Target Audience: 一般
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2015-B799
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 026839599
http://id.ndl.go.jp/bib/026839599
Bibliographic Record Category (NDL): 213