ポストグラフェン材料の創製と用途開発最前線 : 二次元ナノシートの物性評価、構造解析、合成、成膜プロセス技術、応用展開

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-86043-657-5
• Title: ポストグラフェン材料の創製と用途開発最前線 : 二次元ナノシートの物性評価、構造解析、合成、成膜プロセス技術、応用展開
• Title Transcription: ポストグラフェン ザイリョウ ノ ソウセイ ト ヨウト カイハツ サイゼンセン : ニジゲン ナノシート ノ ブッセイ ヒョウカ コウゾウ カイセキ ゴウセイ セイマク プロセス ギジュツ オウヨウ テンカイ
• Author/Editor: 柚原淳司 監修
• Author Heading: 柚原, 淳司 ユハラ, ジュンジ ( 001347746 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : エヌ・ティー・エス
• Publication Date: 2020.4
• Publication Date (W3CDTF): 2020
• Extent: 369,10p 図版53p
• Size: 27cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: ナノマテリアル ナノマテリアル ( 01166704 )Authorities; 薄膜--ナノテクノロジー ハクマク ナノテクノロジー ( 001347837 )Authorities
• NDC 10th ed.: 501.4 : Basic engineering
• NDLC: M213
• NDC (Introduction of Reference Books): 501.4
• Target Audience: 一般
• Note (Bibliography): 索引あり
• Price: 54000円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: M213-M45
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 030332195; http://id.ndl.go.jp/bib/030332195
• National Bibliography No. (JPNO): 23372502
• TOHAN MARC No.: 34055795
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Summary, etc.: ポストグラフェンとして注目の二次元ナノシート材料について、その最新研究動向と応用展開を追う。(Provided by: 出版情報登録センター（JPRO）)

Table of Contents

■目次■

序論 二次元ナノシート材料の技術動向と展望/ 1

第I編 物性評価と構造解析技術

第1章 基礎物性

第1節 IV族単原子層の電子論