Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz 2. neubearb. und erw. Aufl

Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz

2. neubearb. und erw. Aufl

Author: systematisch erläutert von Eduard Reimer ; § 9 des Patentgesetzes erläutert von Ernst Reimer ; §§ 11, 12, 16, 17, 18, 20, 24, 30a, 31, 36a, 43 und 46a-46i des Patentgesetzes überarbeitet und teilweise neu kommentiert von Rudolf Neumar

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Material Type: 図書
Title: Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz
Author/Editor: systematisch erläutert von Eduard Reimer ; § 9 des Patentgesetzes erläutert von Ernst Reimer ; §§ 11, 12, 16, 17, 18, 20, 24, 30a, 31, 36a, 43 und 46a-46i des Patentgesetzes überarbeitet und teilweise neu kommentiert von Rudolf Neumar
Edition: 2. neubearb. und erw. Aufl
Author Heading: Reimer, Eduard
https://ci.nii.ac.jp/author/DA03377504
Reimer, Ernst
Neumar, Rudolf
Publication, Distribution, etc.: C. Heymann
Publication Date: 1958
Publication Date (W3CDTF): 1958
Size: 24 cm
Place of Publication (Country Code): gw
Text Language Code: de
Target Audience: 一般
Note (General): Includes index
Related Material (URI): https://ci.nii.ac.jp/ncid/BA6407981X#entity
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : CiNii Research
Original Data Provider (Database): CiNii Books
https://ci.nii.ac.jp/books
NCID: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BA6407981X : BA6407981X