高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成

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Note (General)：: 課題番号: 17560009平成17年度～平成18年度科学研究費補助金(基盤研究(C))研究成果報告書参考文献: 各論末

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Material Type: 図書
Title: 高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成
Title Transcription: コウミツドラジカルショリホウニヨルキバンヒョウメンノチョウシンスイカトコウヒンシツゼツエンマクノケイセイ
Author/Editor: 和泉亮研究代表
Author Heading: 和泉, 亮イズミ, アキラ
Publication, Distribution, etc.: [九州工業大学]
Publication Date: 2007.4
Publication Date (W3CDTF): 2007
Size: 30cm
Place of Publication (Country Code): ja
Target Audience: 一般
Note (General): 課題番号: 17560009
平成17年度～平成18年度科学研究費補助金(基盤研究(C))研究成果報告書
参考文献: 各論末
Related Material: 科学研究費補助金(基盤研究C)研究成果報告書
https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282269514611328
Related Material (URI): https://ci.nii.ac.jp/ncid/BB06074645#entity
Periodical Title: 科学研究費補助金(基盤研究C)研究成果報告書
https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282269514611328
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : CiNii Research
Original Data Provider (Database): CiNii Books
https://ci.nii.ac.jp/books
NCID: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BB06074645 : BB06074645