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高効率エミッタシリコンバイポーラトランジスタの研究

高効率エミッタシリコンバイポーラトランジスタの研究
PaperDigital博士論文障害者向け資料あり
近藤将夫 [著]<UT51-98-G423>
Available onlineNational Diet Library
  • Author Heading近藤, 将夫

SiGe選択エピタキシャル成長前の基板表面清浄化方法がHBT特性に与える影響の検討

SiGe選択エピタキシャル成長前の基板表面清浄化方法がHBT特性に与える影響の検討
Digital文書・図像類
清田, 幸弘, 小田, 克矢, 大植, 栄司, 速水, 礼子, 近藤, 将夫, 鷲尾, 勝由, 田邊, 正倫, 島本, 裕巳, 山口, 修, 稲田, 太郎, KIYOTA, Yukihiro, ODA, Katsuya, OHUE, Eiji, HAYAMI, Reiko, KONDO, Masao, WASHIO, Katsuyoshi, TANABE, Masamichi, SHIMAMOTO, Hiromi, YAMAGUCHI, Osamu, INADA, Taroh電子情報通信学会2000-10-13電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス374p.39-43
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  • Author Heading清田, 幸弘 小田, 克矢 大植, 栄司 速水, 礼子 近藤, 将夫 鷲尾, 勝由 田邊, 正倫 島本, 裕巳 山口, 修 稲田...

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