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超微細シリコンLSIに用いられる高誘電率薄膜中の欠陥の構造と生成機構の解明

超微細シリコンLSIに用いられる高誘電率薄膜中の欠陥の構造と生成機構の解明
Digital文書・図像類
Oki, Yoshimichi, 大木, 義路2007-04
Other Libraries in Japan
  • Author HeadingOki, Yoshimichi 大木, 義路

光ファイバ型光学素子開発を目指したシリカ系ガラスにおける屈折率増大機構の解明

光ファイバ型光学素子開発を目指したシリカ系ガラスにおける屈折率増大機構の解明
Digital文書・図像類
Oki, Yoshimichi, 大木, 義路2003-04
Other Libraries in Japan
  • Author HeadingOki, Yoshimichi 大木, 義路

フォトルミネセンス法によるシリカ薄膜中の欠陥の検出ならびに構造解析

フォトルミネセンス法によるシリカ薄膜中の欠陥の検出ならびに構造解析
Digital文書・図像類
Oki, Yoshimichi, 大木, 義路2000-03
Other Libraries in Japan
  • Author HeadingOki, Yoshimichi 大木, 義路

ゲルマニウム添加シリカガラスにおける欠陥の構造とその光非線形性発現に果たす役割

ゲルマニウム添加シリカガラスにおける欠陥の構造とその光非線形性発現に果たす役割
Digital文書・図像類
Oki, Yoshimichi, 大木, 義路1996-03p.1-49
Other Libraries in Japan
  • Author HeadingOki, Yoshimichi 大木, 義路

レーザおよび放射線照射によるシリカガラスの励起状態と欠陥生成

レーザおよび放射線照射によるシリカガラスの励起状態と欠陥生成
Digital文書・図像類
Oki, Yoshimichi, 大木, 義路1993-04
Other Libraries in Japan
  • Author HeadingOki, Yoshimichi 大木, 義路

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