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白金の触媒作用を用いるMOSデバイスゲ-ト酸化膜の絶縁耐圧性の向上

白金の触媒作用を用いるMOSデバイスゲ-ト酸化膜の絶縁耐圧性の向上
Paper図書
小林, 光, 大阪大学2000-2002<Y151-H12450127>
National Diet Library
  • Subject Heading白金処理 リ-ク電流 MOS シリコン SiO_2 化学酸化 低温プロセス Si/SiO_2界面

ポルフイリン高分子錯体の三次元構造構築と電子遷移制御

ポルフイリン高分子錯体の三次元構造構築と電子遷移制御
Paper図書
瀬川, 浩司, 東京大学1999-2001<Y151-H11650903>
National Diet Library
  • Subject Headingポルフイリン 高分子錯体 電子移動 π-ラジカル 三重項 光誘起電子移動 化学酸化 光酸化

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