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炎症性腸疾患患者の各種治療前後における表面マーカーおよびケモカイン発現の検討

炎症性腸疾患患者の各種治療前後における表面マーカーおよびケモカイン発現の検討
Paper図書
矢田親一朗, 九州大学 [著][矢田親一朗]2006-2007<Y151-H18590686>
National Diet Library
  • Subject Heading炎症性腸疾患 / LFA-1 / 潰瘍性大腸炎 / Crohn病 / PSL / GCAP / IFX / TPN

放射線管理測定器としてのイメ-ジングプレ-トの応用における定量評価法の確立

放射線管理測定器としてのイメ-ジングプレ-トの応用における定量評価法の確立
Paper図書
大内, 浩子, 東北大学2000-2002<Y151-H12680506>
National Diet Library
  • Subject Heading受動型積算線量計 イメ-ジングプレ-ト フエ-デイング補正関数 定量測定 放射線モニタリング アニ-リング PSL

液中低濃度微粒子に対するメンブレンフイルター性能試験法の開発

液中低濃度微粒子に対するメンブレンフイルター性能試験法の開発
Paper図書
江見, 準, 金沢大学1996-1997<Y151-H08455366>
National Diet Library
  • Subject Headingメンブレンフイルター PSL粒子 電気二重層 ろ過速度 イオン濃度 捕集効率 ろ材ろ過 ...

次世代半導体デバイス洗浄における高周波石英振動体型超音波洗浄装置の開発とその評価技術に関する研究

次世代半導体デバイス洗浄における高周波石英振動体型超音波洗浄装置の開発とその評価技術に関する研究
Digital文書・図像類
清家, 善之, 森, 竜雄, 一野, 祐亮, 本多, 祐二, 疋田, 智美愛知工業大学2022-10総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.24p.6-7
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  • Subject Heading石英振動体型超音波洗浄装置 超音波 半導体 ポリスチレンラテックス（PSL）粒子

半導体Chemical Mechanical Planarization(CMP)プロセスにおける新たな超音波技術の開発

半導体Chemical Mechanical Planarization(CMP)プロセスにおける新たな超音波技術の開発
Digital文書・図像類
清家, 善之, 森, 竜雄, 一野, 祐亮, 本多, 祐二, 疋田, 智美愛知工業大学2023-11総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.25p.6-7
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  • Subject Heading半導体デバイス Chemical Mechanical Planarization(CMP) Post-CMPクリーニング 超音波振動体 ポリスチレンラテックス(PSL)粒子

超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究

超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
Digital文書・図像類
清家, 善之, 森, 竜雄, 本多, 祐二, 疋田, 智美, 佐藤, 正典愛知工業大学2019-12-30総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.21p.11-13
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  • Subject Heading半導体デバイス 超音波洗浄 ポリエスチレンラテックス(PSL)粒子 洗浄 純水 エレクトロスプレー

超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究

超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
Digital文書・図像類
清家, 善之, 森, 竜雄, 本多, 祐二, 疋田, 智美, 佐藤, 正典愛知工業大学2020-11総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.22p.11-13
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  • Subject Heading半導体デバイス 超音波スプレー洗浄 ポリエスチレンラテックス(PSL)粒子 洗浄 純水 エレクトロスプレー

超音波スプレー技術を用いた次世代半導体洗浄技術に関する研究

超音波スプレー技術を用いた次世代半導体洗浄技術に関する研究
Digital文書・図像類
清家, 善之, 本多, 祐二愛知工業大学2018-09-30総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.20p.34-36
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  • Subject Heading半導体デバイス 超音波洗浄 ポリエスチレンラテックス(PSL)粒子 洗浄 純水 エレクトロスプレー

超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究

超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
Digital文書・図像類
清家, 善之, 森, 竜雄, 本多, 祐二, 疋田, 智美, 佐藤, 正典愛知工業大学2021-11総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.23p.8-9
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  • Subject Heading半導体デバイス 石英振動体型超音波洗浄 超音波スプレー洗浄 ポリエスチレンラテックス(PSL)粒子 洗浄 純水 エレクトロスプレー

液中低濃度微粒子に対するメンブレンフィルター性能試験法の開発

液中低濃度微粒子に対するメンブレンフィルター性能試験法の開発
Digital文書・図像類
江見, 準, Emi, Hitoshi1998-03平成9(1997)年度 科学研究費補助金 基盤研究(B) 研究成果報告書 = 1997 Fiscal Year Final Research Report1996-1997p.76p.-
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  • Subject Headingメンブレンフィルター PSL粒子 電気二重層 ろ過速度 イ......embrane filter PSL particle Electrostatic double...
  • Note (General).../min),試験用粒子(単分散PSL粒子)供給装置からなり,フィルター出入口での粒子濃度を同時に...

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