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ナノテクノロジーとレジスト材料 (CMCテクニカルライブラリー ; 256)
ナノテクノロジーとレジスト材料 (CMCテクニカルライブラリー ; 256)
紙
図書
山岡亞夫 監修
シーエムシー出版
2007.4
<ND386-H221>
国立国会図書館
全国の図書館
著者標目(識別子)
00094172
新しいレジスト材料とナノテクノロジー
新しいレジスト材料とナノテクノロジー
紙
図書
山岡亞夫 監修
シーエムシー出版
2002.9
<ND386-H21>
国立国会図書館
全国の図書館
著者標目(識別子)
00094172
高分子工業化学 (応用化学シリーズ ; 3)
高分子工業化学 (応用化学シリーズ ; 3)
紙
図書
山岡亜夫 編著
朝倉書店
2003.12
<PA431-H28>
国立国会図書館
全国の図書館
著者標目(識別子)
00094172
00558926
フォトポリマーの基礎と応用 (CMCテクニカルライブラリー ; 136)
フォトポリマーの基礎と応用 (CMCテクニカルライブラリー ; 136)
紙
図書
山岡亜夫 監修
シーエムシー出版
2003.3
<PA441-H27>
国立国会図書館
全国の図書館
著者標目(識別子)
00094172
実用高分子レジスト材料の新展開
実用高分子レジスト材料の新展開
紙
図書
シーエムシー
1997.1
<PA441-G21>
国立国会図書館
全国の図書館
著者標目(識別子)
00094172
情報記録 : 化学的アプローチ (新産業化学シリーズ)
情報記録 : 化学的アプローチ (新産業化学シリーズ)
紙
図書
小門宏, 山岡亜夫 著
大日本図書
1998.12
<PE21-G1>
国立国会図書館
全国の図書館
著者標目(識別子)
00167453
00094172
00261496
半導体集積回路用レジスト材料ハンドブック
半導体集積回路用レジスト材料ハンドブック
紙
図書
山岡亜夫 監修
リアライズ社
1996.7
<ND386-G56>
国立国会図書館
全国の図書館
著者標目(識別子)
00094172
フォトポリマー・テクノロジー
フォトポリマー・テクノロジー
紙
図書
山岡亜夫, 永松元太郎 編
日刊工業新聞社
1988.12
<PA441-E27>
国立国会図書館
全国の図書館
著者標目(識別子)
00094172
00049802
感光性樹脂 (高分子新素材one point ; 8)
感光性樹脂 (高分子新素材one point ; 8)
紙
図書
山岡亜夫, 森田浩 著
共立出版
1988.5
<PA441-E13>
国立国会図書館
全国の図書館
著者標目(識別子)
00094172
00175850
有機金属化合物の構造決定 (講談社現代の化学シリーズ ; 23,24)
有機金属化合物の構造決定 (講談社現代の化学シリーズ ; 23,24)
紙
デジタル
図書
M.Tsutsui 編, 山岡亜夫 訳
講談社
1974
<PA325-38>
インターネットで読める
国立国会図書館
著者標目(識別子)
00087080
00094172
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