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応用美術(デザイン)の法的保護 : 韓国と日本の意匠法、不正競争防止法及び著作権法の比較を中心に (産業財産権研究推進事業(平成19～21年度)報告書 ; 平成19年度)
応用美術(デザイン)の法的保護 : 韓国と日本の意匠法、不正競争防止法及び著作権法の比較を中心に (産業財産権研究推進事業(平成19～21年度)報告書 ; 平成19年度)
紙
図書
チャ・サンユク [著]
知的財産研究所
2009.3
<A411-J183>
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著者標目（識別子）
01168548
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