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電子ビーム直接描画とビアマスク可変論理設計技術を用いた電子印鑑LSIの研究
電子ビーム直接描画とビアマスク可変論理設計技術を用いた電子印鑑LSIの研究
紙
図書
藤野毅, 立命館大学 [著]
[藤野毅]
2006-2007
<Y151-H18560355>
国立国会図書館
件名
半導体超微細化 / 先端機能デバイス /
電子ビーム描画
/ プログラマブルロジック / 暗号・認証
多モード干渉(MMI)光導波路カプラを用いたモード多重素子の試作
多モード干渉(MMI)光導波路カプラを用いたモード多重素子の試作
紙
図書
堤喜代司, 京都工芸繊維大学 [著]
[堤喜代司]
2004-2006
<Y151-H16560298>
国立国会図書館
件名
光導波路 / 多モード干渉導波路カプラ / 導波モードの多重 /
電子ビーム描画
/ ステージ移動による描画 / インチワームモータ
MnBi系単結晶および人工格子のMBE成長と非線形磁気光学効果による評価
MnBi系単結晶および人工格子のMBE成長と非線形磁気光学効果による評価
紙
図書
佐藤, 勝昭, 東京農工大学
1998-2000
<Y151-H10450004>
国立国会図書館
件名
MnBi MnAs MBE成長 緩衝層 磁気光学効果
電子ビーム描画
集束イオンビーム加工 非線形磁気光学効果
電子ビーム描画
法を用いたin-Situシリコン選択エピタキシヤルSOI構造の研究
電子ビーム描画法を用いたin-Situシリコン選択エピタキシヤルSOI構造の研究
紙
図書
石田, 誠, 豊橋技術科学大学
1991-1992
<Y151-H03452155>
国立国会図書館
件名
Si選択エピタキシヤル成長 電子ビーム照射 SOI構造 ガスソースMBE Si/Al2O3/Si構造
電子ビーム描画
法 エピタキシヤルAl2O3膜
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