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液中低濃度微粒子に対するメンブレンフイルター性能試験法の開発
液中低濃度微粒子に対するメンブレンフイルター性能試験法の開発
紙
図書
江見, 準, 金沢大学
1996-1997
<Y151-H08455366>
国立国会図書館
件名
メンブレンフイルター
PSL粒子
電気二重層 ろ過速度 イオン濃度 捕集効率 ろ材ろ過 粒子...
次世代半導体デバイス洗浄における高周波石英振動体型超音波洗浄装置の開発とその評価技術に関する研究
次世代半導体デバイス洗浄における高周波石英振動体型超音波洗浄装置の開発とその評価技術に関する研究
デジタル
文書・図像類
清家, 善之, 森, 竜雄, 一野, 祐亮, 本多, 祐二, 疋田, 智美
愛知工業大学
2022-10
総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.
24
p.6-7
全国の図書館
半導体Chemical Mechanical Planarization(CMP)プロセスにおける新たな超音波技術の開発
半導体Chemical Mechanical Planarization(CMP)プロセスにおける新たな超音波技術の開発
デジタル
文書・図像類
清家, 善之, 森, 竜雄, 一野, 祐亮, 本多, 祐二, 疋田, 智美
愛知工業大学
2023-11
総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.
25
p.6-7
全国の図書館
超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
デジタル
文書・図像類
清家, 善之, 森, 竜雄, 本多, 祐二, 疋田, 智美, 佐藤, 正典
愛知工業大学
2020-11
総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.
22
p.11-13
全国の図書館
超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
デジタル
文書・図像類
清家, 善之, 森, 竜雄, 本多, 祐二, 疋田, 智美, 佐藤, 正典
愛知工業大学
2019-12-30
総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.
21
p.11-13
全国の図書館
超音波スプレー技術を用いた次世代半導体洗浄技術に関する研究
超音波スプレー技術を用いた次世代半導体洗浄技術に関する研究
デジタル
文書・図像類
清家, 善之, 本多, 祐二
愛知工業大学
2018-09-30
総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.
20
p.34-36
全国の図書館
超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
デジタル
文書・図像類
清家, 善之, 森, 竜雄, 本多, 祐二, 疋田, 智美, 佐藤, 正典
愛知工業大学
2021-11
総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.
23
p.8-9
全国の図書館
液中低濃度微粒子に対するメンブレンフィルター性能試験法の開発
液中低濃度微粒子に対するメンブレンフィルター性能試験法の開発
デジタル
文書・図像類
江見, 準, Emi, Hitoshi
1998-03
平成9(1997)年度 科学研究費補助金 基盤研究(B) 研究成果報告書 = 1997 Fiscal Year Final Research Report
1996-1997
p.76p.-
全国の図書館
件名
メンブレンフィルター
PSL粒子
電気二重層 ろ過速度 イオン濃度 捕集効率 ろ材ろ過 粒子...
一般注記
.../min),試験用粒子(単分散
PSL粒子
)供給装置からなり,フィルター出入口での粒子濃度を同時に測定...
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