3次元半導体デバイス...

3次元半導体デバイス向け高品質絶縁膜積層技術の開発

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3次元半導体デバイス向け高品質絶縁膜積層技術の開発

国立国会図書館請求記号
Z74-C327
国立国会図書館書誌ID
026228524
資料種別
記事
著者
赤江 尚徳ほか
出版者
羽村 : 日立国際電気
出版年
2014
資料形態
掲載誌名
日立国際電気技報 / 企画部研究管理課 編 (15):2014年度版
掲載ページ
p.9-12
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
赤江 尚徳
寺崎 昌人
尾崎 貴志 他
並列タイトル等
Development of high quality dielectric film stacking technology for 3-dimensional semiconductor devices
タイトル(掲載誌)
日立国際電気技報 / 企画部研究管理課 編
巻号年月日等(掲載誌)
(15):2014年度版
掲載号
15
掲載ページ
9-12
掲載年月日(W3CDTF)
2014