3次元トポロジカル絶縁体Bi₂-xSbxTe₃-ySey薄膜の合成と物性評価

• 資料種別: 記事
• タイトル: 3次元トポロジカル絶縁体Bi₂-xSbxTe₃-ySey薄膜の合成と物性評価
• 著者・編者: 田邉 洋一; Tu Ngoc Han; Khuong Kim Huynh 他
• シリーズタイトル: 強磁場下の物性の研究 : 輸送現象
• 著者標目: 田邉 洋一; Tu Ngoc Han; Khuong Kim Huynh
• 並列タイトル等: Van der Waals Epitaxial Growth of Three Dimensional Topological Insulator Bi₂-xSbxTe₃-ySey Thin Film
• タイトル（掲載誌）: 東北大学金属材料研究所強磁場超伝導材料研究センター年次報告
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2014年度
• 掲載ページ: 123-125
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2014
• 出版事項（掲載誌）: [仙台] : 東北大学金属材料研究所附属強磁場超伝導材料研究センター
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: ZM35
• 対象利用者: 一般
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z15-672
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 026705149; http://id.ndl.go.jp/bib/026705149
• 整理区分コード: 632