ビスフェノールAとホルムアルデヒドを用いたノボラック樹脂の合成と性質 : ビスフェノール類に着眼した柔軟性をもつフォトレジスト材の開発

• 資料種別: 記事
• タイトル: ビスフェノールAとホルムアルデヒドを用いたノボラック樹脂の合成と性質 : ビスフェノール類に着眼した柔軟性をもつフォトレジスト材の開発
• 著者・編者: 山﨑 博人; 西村 利康; 山﨑 椋太; 江口 まり音
• 著者標目: 山﨑 博人; 西村 利康; 山﨑 椋太; 江口 まり音
• 並列タイトル等: Synthesis and Properties of Bisphenol A-Formaldehyde Novolac Resins : Development of Photo-resist Material Having Flexibility Noticed with Bisphenol Unit
• タイトル（掲載誌）: ネットワークポリマー = Journal of network polymer, Japan
• 巻号年月日等（掲載誌）: 38(4):2017
• 掲載巻: 38
• 掲載号: 4
• 掲載ページ: 173-183
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2017
• ISSN（掲載誌）: 1342-0577
• ISSN-L（掲載誌）: 1342-0577
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 合成樹脂工業協会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: Bisphenol A; Formaldehyde; Flexibility; Novolac-resin; Photo-resist
• NDLC: ZP17
• 対象利用者: 一般
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z17-845
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 028391199; http://id.ndl.go.jp/bib/028391199
• 整理区分コード: 632