ビス(メトキシメチル)ビフェニルを用いたノボラック樹脂の合成と性質 : ビスフェノール類に着眼した柔軟性をもつフォトレジスト材の開発

• 資料種別: 記事
• タイトル: ビス(メトキシメチル)ビフェニルを用いたノボラック樹脂の合成と性質 : ビスフェノール類に着眼した柔軟性をもつフォトレジスト材の開発
• 著者・編者: 山﨑 博人; 中野 小百合; 古本 貴久; 黒岩 貞昭; 高林 誠一郎
• 著者標目: 山﨑 博人; 中野 小百合; 古本 貴久; 黒岩 貞昭; 高林 誠一郎
• 並列タイトル等: Synthesis and Properties of Bisphenol A-Bis(methoxymethyl)biphenyl Novolac Resin : Development of Photo-resist Material Having Flexibility Noticed with Bisphenol unit
• タイトル（掲載誌）: Journal of network polymer, Japan = ネットワークポリマー論文集
• 巻号年月日等（掲載誌）: 39(5):2018
• 掲載巻: 39
• 掲載号: 5
• 掲載ページ: 219-229
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2018
• ISSN（掲載誌）: 2433-3786
• ISSN-L（掲載誌）: 2433-3786
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 合成樹脂工業協会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 4,4'-Bis(methoxymethyl)-biphenyl; Bisphenol A; Pyrogallol; Flexibility; Photo-resist
• NDLC: ZP17
• 対象利用者: 一般
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z17-845
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 029268313; http://id.ndl.go.jp/bib/029268313
• 整理区分コード: 632