Experimental In-Situ Observatory on Brownian Motion Behavior of 105 nm Sized Silica Particles During Chemical Mechanical Polishing of 4H-SiC by an Evanescent Field(Special Issue on On-Machine and In-Process Measurement for Smart and Precision Manufacturing)

• 資料種別: 記事
• タイトル: Experimental In-Situ Observatory on Brownian Motion Behavior of 105 nm Sized Silica Particles During Chemical Mechanical Polishing of 4H-SiC by an Evanescent Field
• 著者・編者: Thitipat Permpatdechakul; Panart Khajornrungruang; Keisuke Suzuki; Aran Blattler; Jiraphan Inthiam
• シリーズタイトル: Special Issue on On-Machine and In-Process Measurement for Smart and Precision Manufacturing
• 著者標目: Thitipat Permpatdechakul; Panart Khajornrungruang; Keisuke Suzuki; Aran Blattler; Jiraphan Inthiam
• タイトル（掲載誌）: International journal of automation technology
• 巻号年月日等（掲載誌）: 18(1)=99:2024.1
• 掲載巻: 18
• 掲載号: 1
• 掲載通号: 99
• 掲載ページ: 47-57
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2024-01
• ISSN（掲載誌）: 1881-7629
• ISSN-L（掲載誌）: 1881-7629
• 出版事項（掲載誌）: Tokyo : Fuji Technology Press
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: ZM5
• 対象利用者: 一般
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z78-A598
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 033252388; http://id.ndl.go.jp/bib/033252388
• 整理区分コード: 632