プラズマCVD法によるシリコン系薄膜の成長 : 気相・表面・膜中の反応と薄膜の高品質化(特集プラズマが誘起する表面反応の制御による膜作製)

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資料種別: 記事
タイトル: プラズマCVD法によるシリコン系薄膜の成長 : 気相・表面・膜中の反応と薄膜の高品質化
著者・編者: 布村正太
近藤道雄
シリーズタイトル: 特集プラズマが誘起する表面反応の制御による膜作製
著者標目: 布村正太
近藤道雄
並列タイトル等: Thin-film Silicon Growth by Plasma-enhanced CVD : Gas-phase, Surface and In-film Reactions for High-quality Film Formation
タイトル（掲載誌）: 表面と真空 = Vacuum and surface science / 日本表面科学会, 日本真空学会編
巻号年月日等（掲載誌）: 67(2):2024.2
掲載巻: 67
掲載号: 2
掲載ページ: 44-51
掲載年月日（W3CDTF）: 2024-02
ISSN（掲載誌）: 2433-5835
ISSN-L（掲載誌）: 2433-5835
出版事項（掲載誌）: 東京 : 日本表面科学会 ; 2018-
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
NDLC: ZN15
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z16-474
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 033346026
http://id.ndl.go.jp/bib/033346026
整理区分コード: 632