溶液プロセスp型SnO薄膜トランジスタに向けた溶液調整の検討および薄膜作製

• 資料種別: 記事
• タイトル: 溶液プロセスp型SnO薄膜トランジスタに向けた溶液調整の検討および薄膜作製
• 著者・編者: 曹 博聞; 小林 亮太; 相川 慎也
• シリーズタイトル: 電子材料研究会 エコシステム材料の合成・プロセスと次世代デバイス応用への展開
• 著者標目: 曹 博聞; 小林 亮太; 相川 慎也
• 並列タイトル等: Investigation of solution preparation and fabrication of thin films for solution-processed p-type SnO thin-film transistors
• タイトル（掲載誌）: 電気学会研究会資料. EFM / 電気学会電子材料研究会 [編]
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2024(1-26):2024.11.28・29
• 掲載巻: 2024
• 掲載号: 1-26
• 掲載ページ: 7-10
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2024-11
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電気学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: p型SnO; 溶液プロセス; 薄膜トランジスタ; p-type SnO; solution process; thin-film transistors
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: EFM-24-003
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z43-226
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 033849542; http://id.ndl.go.jp/bib/033849542
• 整理区分コード: 632