溶液プロセスp型SnO薄膜トランジスタに向けた溶液調整の検討および薄膜作製 (電子材料研究会エコシステム材料の合成・プロセスと次世代デバイス応用への展開)

溶液プロセスp型SnO薄膜トランジスタに向けた溶液調整の検討および薄膜作製

(電子材料研究会エコシステム材料の合成・プロセスと次世代デバイス応用への展開)

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Material Type: 記事
Title: 溶液プロセスp型SnO薄膜トランジスタに向けた溶液調整の検討および薄膜作製
Author/Editor: 曹博聞
小林亮太
相川慎也
Series Title: 電子材料研究会エコシステム材料の合成・プロセスと次世代デバイス応用への展開
Author Heading: 曹博聞
小林亮太
相川慎也
Alternative Title: Investigation of solution preparation and fabrication of thin films for solution-processed p-type SnO thin-film transistors
Periodical title: 電気学会研究会資料. EFM / 電気学会電子材料研究会 [編]
No. or year of volume/issue: 2024(1-26):2024.11.28・29
Volume: 2024
Issue: 1-26
Pages: 7-10
Publication date of volume/issue (W3CDTF): 2024-11
Publication (Periodical Title): 東京 : 電気学会
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
Subject Heading: p型SnO
溶液プロセス
薄膜トランジスタ
p-type SnO
solution process
thin-film transistors
NDLC: ZN33
Target Audience: 一般
Report No. (Article): EFM-24-003
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Z43-226
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 033849542
http://id.ndl.go.jp/bib/033849542
Bibliographic Record Category (NDL): 632