Ar/H₂スパッタ成膜したIn₂O₃系透明導電膜の屈曲時抵抗変化と成膜時圧力の関係理解

• 資料種別: 記事
• タイトル: Ar/H₂スパッタ成膜したIn₂O₃系透明導電膜の屈曲時抵抗変化と成膜時圧力の関係理解
• 著者・編者: 木菱 完太; 山寺 真理; 小林 翔; 相川 慎也
• シリーズタイトル: 電子材料研究会 エコシステム材料の合成・プロセスと次世代デバイス応用への展開
• 著者標目: 木菱 完太; 山寺 真理; 小林 翔; 相川 慎也
• 並列タイトル等: Understanding the relationship between resistance changing during bending and sputtering pressure of In₂O₃-based transparent conductive oxide films fabricated in Ar/H₂ atmosphere
• タイトル（掲載誌）: 電気学会研究会資料. EFM / 電気学会電子材料研究会 [編]
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2024(1-26):2024.11.28・29
• 掲載巻: 2024
• 掲載号: 1-26
• 掲載ページ: 11-14
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2024-11
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電気学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: フレキシブル; 透明導電膜; 酸化インジウム; 水素; ドーピング; 常温プロセス; Flexible; Transparent conductive films; In₂O₃; Hydrogen; Doping; Room temperature process
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: EFM-24-004
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z43-226
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 033849544; http://id.ndl.go.jp/bib/033849544
• 整理区分コード: 632