rfマグネトロンスパッタリングによる酸化亜鉛薄膜の成膜速度

• 資料種別: 記事
• タイトル: rfマグネトロンスパッタリングによる酸化亜鉛薄膜の成膜速度
• 著者・編者: 伊〓崎 泰宏; 神間 博和
• 著者標目: 伊〓崎 泰宏; 神間 博和
• タイトル（掲載誌）: 静岡大学電子工学研究所研究報告
• 巻号年月日等（掲載誌）: 29(2) 1995
• 掲載巻: 29
• 掲載号: 2
• 掲載ページ: p135～142
• 掲載年月日（W3CDTF）: 1995
• ISSN（掲載誌）: 0286-3383
• ISSN-L（掲載誌）: 0286-3383
• 出版事項（掲載誌）: 浜松 : 静岡大学電子工学研究所
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• 記事種別、記事分類: 記事分類: 電気工学--電子工学--電子部品--固体素子
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-297
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 3613412; http://id.ndl.go.jp/bib/3613412
• 整理区分コード: 632

• 要約等: 記事分類: 電気工学--電子工学--電子部品--固体素子（提供元: CiNii Research）