CVD法による窒化タンタル薄膜の合成とその析出機構 (CVD<特集> ; 膜・表面処理)
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CiNii Research
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 舟窪 浩 他
- シリーズタイトル
- 著者標目
- タイトル（掲載誌）
- 化学工学論文集
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 16(3) 1990.05
- 掲載巻
- 16
- 掲載号
- 3
- 掲載ページ
- p430～437