X線光電子分光法によ...

X線光電子分光法による薄い金属表面酸化膜の膜厚測定 (表面・界面・薄膜と分析化学<特集> ; 表面)

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X線光電子分光法による薄い金属表面酸化膜の膜厚測定(表面・界面・薄膜と分析化学<特集> ; 表面)

国立国会図書館請求記号
Z17-9
国立国会図書館書誌ID
3744443
資料種別
記事
著者
奥田 和明ほか
出版者
東京 : 日本分析化学会
出版年
1991-11
資料形態
デジタル
掲載誌名
分析化学 / 日本分析化学会 編 40(11) 1991.11
掲載ページ
p.p691~696
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資料詳細

要約等:

薄い金属酸化膜試料の膜厚をX線光電子分光法により測定した.試料としてAl<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>/Al,PbO/Pb,MgO/Mg,SiO<SUB>2</SUB>/Siを用いた.光電子スペクトルは酸化物と金属成分に対応したダブルピーク構造を示す.各々のピーク強度を光電子取り...

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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
奥田 和明
伊藤 秋男
タイトル(掲載誌)
分析化学 / 日本分析化学会 編
巻号年月日等(掲載誌)
40(11) 1991.11
掲載巻
40
掲載号
11
掲載ページ
p691~696