X線マイクロアナライザーによるシリコンウエハ上タングステンシリサイド膜及びボロホスホシリケイトガラス膜の組成分析(表面・界面・薄膜と分析化学<特集> ; 薄膜)

• 資料種別: 記事
• タイトル: X線マイクロアナライザーによるシリコンウエハ上タングステンシリサイド膜及びボロホスホシリケイトガラス膜の組成分析
• 著者・編者: 慎石 規子 他
• シリーズタイトル: 表面・界面・薄膜と分析化学<特集> ; 薄膜
• 著者標目: 慎石 規子
• タイトル（掲載誌）: 分析化学 / 日本分析化学会 編
• 巻号年月日等（掲載誌）: 40(11) 1991.11
• 掲載巻: 40
• 掲載号: 11
• 掲載ページ: Tp195～202
• 掲載年月日（W3CDTF）: 1991-11
• ISSN（掲載誌）: 0525-1931
• ISSN-L（掲載誌）: 0525-1931
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 日本分析化学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: ZP4
• 対象利用者: 一般
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z17-9
• 関連情報（URI）: http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10892779
• 関連情報（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10892779; http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10892779
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 3744477; http://id.ndl.go.jp/bib/3744477
• 整理区分コード: 632

• 要約等: ウエハ上のタングステンシリサイド(WSi<I><SUB>x</SUB></I>)膜とボロホスホシリケイト(BPSG)膜についてX線マイクロアナライザー(EPMA)による組成定量法を検討した.基板シリコンの影響を防止するため電子の侵入深さが浅い低加速電圧法を採用し,分析深さと感度を基準に加速電圧や分析...