X線マイクロアナライザーによるシリコンウエハ上タングステンシリサイド膜及びボロホスホシリケイトガラス膜の組成分析(表面・界面・薄膜と分析化学<特集> ; 薄膜)

• Material Type: 記事
• Title: X線マイクロアナライザーによるシリコンウエハ上タングステンシリサイド膜及びボロホスホシリケイトガラス膜の組成分析
• Author/Editor: 慎石 規子 他
• Series Title: 表面・界面・薄膜と分析化学<特集> ; 薄膜
• Author Heading: 慎石 規子
• Periodical title: 分析化学 / 日本分析化学会 編
• No. or year of volume/issue: 40(11) 1991.11
• Volume: 40
• Issue: 11
• Pages: Tp195～202
• Publication date of volume/issue (W3CDTF): 1991-11
• ISSN (Periodical Title): 0525-1931
• ISSN-L (Periodical Title): 0525-1931
• Publication (Periodical Title): 東京 : 日本分析化学会
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: ZP4
• Target Audience: 一般
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• Access Restrictions: インターネット公開
• Availability of remote photoduplication service: 不可
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Z17-9
• Related Material (URI): http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10892779
• Related Material (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/10892779; http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10892779
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 3744477; http://id.ndl.go.jp/bib/3744477
• Bibliographic Record Category (NDL): 632

• Summary, etc.: ウエハ上のタングステンシリサイド(WSi<I><SUB>x</SUB></I>)膜とボロホスホシリケイト(BPSG)膜についてX線マイクロアナライザー(EPMA)による組成定量法を検討した.基板シリコンの影響を防止するため電子の侵入深さが浅い低加速電圧法を採用し,分析深さと感度を基準に加速電圧や分析...