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Selective Area Growth of GaN on Si Substrate Using SiO2 Mask by Metalorganic Vapor Phase Epitaxy

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Selective Area Growth of GaN on Si Substrate Using SiO2 Mask by Metalorganic Vapor Phase Epitaxy

国立国会図書館請求記号
Z54-J337
国立国会図書館書誌ID
4550597
資料種別
記事
著者
Yasutoshi Kawaguchiほか
出版者
Tokyo : Japan Society of Applied Physics
出版年
1998-08
資料形態
掲載誌名
Japanese journal of applied physics. Pt. 2, Letters 37(8B) 1998.08
掲載ページ
p.L966~969
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
Yasutoshi Kawaguchi
Yoshio Honda
Hidetaka Matsushima 他
タイトル(掲載誌)
Japanese journal of applied physics. Pt. 2, Letters
巻号年月日等(掲載誌)
37(8B) 1998.08
掲載巻
37
掲載号
8B
掲載ページ
L966~969
掲載年月日(W3CDTF)
1998-08