Measurement Technique for the Evaluation of Residual Stress in Epitaxial Thin Film by Asymmetric X-Ray Diffraction
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CiNii Research
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 内田 寛木口 賢紀佐伯 淳 他
- 並列タイトル等
- 非対称X線回折によるエピタキシャル薄膜の残留応力の評価手法
- タイトル（掲載誌）
- 日本セラミックス協会学術論文誌 / 日本セラミックス協会 [編]
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 107 (通号 1247) 1999.07
- 掲載巻
- 107
- 掲載通号
- 1247
- 掲載ページ
- 606～610