ホットホール注入によるトンネルゲート酸化膜の絶縁性劣化 (特集:極微構造集積デバイス・プロセス技術)
デジタルデータあり(Japan Link Center)
すぐに読む
CiNii Research
全国の図書館の所蔵
国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。
所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください
書誌情報
この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。
- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 鎌倉 良成出口 和亮石田 明寛 他
- シリーズタイトル
- タイトル(掲載誌)
- 電気学会論文誌. C, 電子・情報・システム部門誌 = IEEJ transactions on electronics, information and systems
- 巻号年月日等(掲載誌)
- 121(3) 2001.3
- 掲載巻
- 121
- 掲載号
- 3
- 掲載ページ
- 492~498