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イオンプレーティング法による窒化珪素薄膜の特性--窒化ケイ素薄膜の残留応力の測定

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イオンプレーティング法による窒化珪素薄膜の特性--窒化ケイ素薄膜の残留応力の測定

国立国会図書館請求記号
Z16-851
国立国会図書館書誌ID
5880554
資料種別
記事
著者
鈴木 泰夫ほか
出版者
千葉 : 千葉県機械金属試験場
出版年
2000
資料形態
掲載誌名
千葉県機械金属試験場研究報告 (30) 2000
掲載ページ
p.14~18
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
鈴木 泰夫
石川 宏美
蓮見 薫
タイトル(掲載誌)
千葉県機械金属試験場研究報告
巻号年月日等(掲載誌)
(30) 2000
掲載号
30
掲載ページ
14~18
掲載年月日(W3CDTF)
2000
ISSN(掲載誌)
0289-0216