Role of Ultra Thin SiOx Layer for Epitaxial Growth of YSZ/SiOx/(001)Si Thin Films (Special Issue Ceramics Integration)

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Role of Ultra Thin SiOx Layer for Epitaxial Growth of YSZ/SiOx/(001)Si Thin Films(Special Issue Ceramics Integration)

国立国会図書館請求記号
Z17-249
国立国会図書館書誌ID
6154148
資料種別
記事
著者
木口 賢紀ほか
出版者
東京 : 日本セラミックス協会
出版年
2002-05
資料形態
掲載誌名
日本セラミックス協会学術論文誌 / 日本セラミックス協会 [編] 110(1281) 2002.5
掲載ページ
p.338~342
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
木口 賢紀
脇谷 尚樹
篠崎 和夫 他
シリーズタイトル
並列タイトル等
YSZ/SiOx/(001)Si薄膜のエピタキシャル成長における極薄SiOx層の役割
タイトル(掲載誌)
日本セラミックス協会学術論文誌 / 日本セラミックス協会 [編]
巻号年月日等(掲載誌)
110(1281) 2002.5
掲載巻
110
掲載号
1281