Crystal Defects in Epitaxial Layer on Nitrogen-doped Czochralski-grown Silicon Substrate(2)Suppression of the Crystal Defects in Epitaxial Layer by the Control of Crystal Growth Condition and Carbon Co-doping

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Crystal Defects in Epitaxial Layer on Nitrogen-doped Czochralski-grown Silicon Substrate(2)Suppression of the Crystal Defects in Epitaxial Layer by the Control of Crystal Growth Condition and Carbon Co-doping

国立国会図書館請求記号
Z53-A375
国立国会図書館書誌ID
6930894
資料種別
記事
著者
Katsuhiko Nakaiほか
出版者
Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
出版年
2004-04
資料形態
デジタル
掲載誌名
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 43(4A) (通号 590) 2004.4
掲載ページ
p.1247~1253
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資料詳細

要約等:

Two types of crystal defects, stacking fault induced by a nitrogen-doped substrate (N-SF) and elliptical pit (E-pit), are generated in the epitaxial l...

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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
Katsuhiko Nakai
Koichi Kitahara
Yasumitsu Ohta 他
タイトル(掲載誌)
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号年月日等(掲載誌)
43(4A) (通号 590) 2004.4
掲載巻
43
掲載号
4A
掲載通号
590
掲載ページ
1247~1253