Invited Key Technology Development for EUVL Mask Fabrication (2004 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Application of Advanced Semiconductor Devices(AWAD 2004) ; Session A8 Nano-Lithography)

Invited Key Technology Development for EUVL Mask Fabrication

(2004 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Application of Advanced Semiconductor Devices(AWAD 2004) ; Session A8 Nano-Lithography)

国立国会図書館請求記号: Z16-940
国立国会図書館書誌ID: 7036646

資料種別: 記事

著者: Jinho Ahnほか

出版者: 東京 : 電子情報通信学会

出版年: 2004-07-02

資料形態: 紙

掲載誌名: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 104(157) 2004.7.2

掲載ページ: p.1～4

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書誌情報

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紙

資料種別: 記事
タイトル: Invited Key Technology Development for EUVL Mask Fabrication
著者・編者: Jinho Ahn
Taegeun Kim
Seungyoon Lee
シリーズタイトル: 2004 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Application of Advanced Semiconductor Devices(AWAD 2004) ; Session A8 Nano-Lithography
著者標目: Jinho Ahn
Taegeun Kim
Seungyoon Lee
タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等（掲載誌）: 104(157) 2004.7.2
掲載巻: 104
掲載号: 157
掲載ページ: 1～4
掲載年月日（W3CDTF）: 2004-07-02
ISSN（掲載誌）: 0913-5685
ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
件名標目: Extreme Ultraviolet
Lithography
Multilayer
Defect
NDLC: ZN33
対象利用者: 一般
レポート番号（雑誌記事）: SDM2004-106
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z16-940
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 7036646
http://id.ndl.go.jp/bib/7036646
整理区分コード: 632