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巻号(24) 2005
次世代Siデバイス向...

次世代Siデバイス向けPECVD低誘電率層間絶縁膜用プレカーサーの開発

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次世代Siデバイス向けPECVD低誘電率層間絶縁膜用プレカーサーの開発

国立国会図書館請求記号
Z17-1192
国立国会図書館書誌ID
7890047
資料種別
記事
著者
田島 暢夫ほか
出版者
東京 : 大陽日酸技術本部技報編集事務局
出版年
2005
資料形態
デジタル
掲載誌名
大陽日酸技報 (24) 2005
掲載ページ
p.16~21
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
田島 暢夫
神力 学
宮澤 和浩 他
タイトル(掲載誌)
大陽日酸技報
巻号年月日等(掲載誌)
(24) 2005
掲載号
24
掲載ページ
16~21
掲載年月日(W3CDTF)
2005
ISSN(掲載誌)
1349-693X