ArF液浸用レジストのC60イオンビームを用いたXPS深さ方向状態解析 (第26回表面科学講演大会論文特集(1))
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 山本 雄一代田 直子山本 清
- シリーズタイトル
- 並列タイトル等
- XPS depth profile analysis of ArF immersion resists by using C60 ion beam
- タイトル（掲載誌）
- 表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan / 日本表面科学会 編
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 28(7) 2007.7
- 掲載巻
- 28
- 掲載号
- 7