本文に飛ぶ

雑誌Semiconductor international 日本版
巻号5(6) 2008.6
記事SACVD酸化膜によ...

SACVD酸化膜による電気性能の改善

記事を表すアイコン

SACVD酸化膜による電気性能の改善

国立国会図書館請求記号
Z74-E304
国立国会図書館書誌ID
9532268
資料種別
記事
著者
Cary Chingほか
出版者
東京 : リード・ビジネス・インフォメーション
出版年
2008-06
資料形態
紙
掲載誌名
Semiconductor international. 日本版 5(6) 2008.6
掲載ページ
p.25～29
すべて見る

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

連携機関・データベースの一覧

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

  • CiNii Research

    検索サービス
    紙
    連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。
    この本の所蔵を確認

書誌情報

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

紙

資料種別
記事
タイトル
SACVD酸化膜による電気性能の改善
著者・編者
Cary Ching
Harry Whitesell
Shankar Venkataraman
著者標目
Cary Ching
Harry Whitesell
Shankar Venkataraman
並列タイトル等
Improving electrical performance using SACVD oxide films
タイトル（掲載誌）
Semiconductor international. 日本版
巻号年月日等（掲載誌）
5(6) 2008.6
掲載巻
5
掲載号
6
掲載ページ
25～29