Semiconductor international. 日本版

• 資料種別: 雑誌
• タイトル: Semiconductor international
• タイトルよみ: Semiconductor international
• 巻次・部編番号: 5巻6号 2008年6月
• 部編名: 日本版
• 著者標目: リードビジネスインフォメーション株式会社 リード ビジネス インフォメーション カブシキ ガイシャ ( 01011123 )典拠
• 出版事項: 東京 : リード・ビジネス・インフォメーション
• 出版年月日等: 2008
• 出版年（W3CDTF）: 2008
• 刊行巻次・年月次: v. 1, no. 1 (2004年11月)-v. 6, no. 4 (2009年12月)
• 大きさ: 28cm
• その他のタイトル（キー・タイトル）: Semiconductor international. Nihonban
• ISSN（掲載誌）: 1349-6425
• ISSN-L（掲載誌）: 1349-6425
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 著者別名: Reed Business Information
• NDLC: ZN33
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z74-E304
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007492743; http://id.ndl.go.jp/bib/000007492743
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版

目次

固体ソース供給システムでハフニウム系ゲート絶縁膜を実現

SACVD酸化膜による電気性能の改善

極浅接合技術の傾向

SEMを使用した新しいウェーハ検査レシピ最適化法