Semiconductor international. 日本版

• Material Type: 雑誌
• Title: Semiconductor international
• Title Transcription: Semiconductor international
• Volume: 5(6) 2008.6
• Part Title: 日本版
• Author Heading: リードビジネスインフォメーション株式会社 リード ビジネス インフォメーション カブシキ ガイシャ ( 01011123 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : リード・ビジネス・インフォメーション
• Publication Date: 2008
• Publication Date (W3CDTF): 2008
• Year and volume of publication: v. 1, no. 1 (2004年11月)-v. 6, no. 4 (2009年12月)
• Size: 28cm
• Key Title: Semiconductor international. Nihonban
• ISSN (Periodical Title): 1349-6425
• ISSN-L (Periodical Title): 1349-6425
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Alias of Author: Reed Business Information
• NDLC: ZN33
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Z74-E304
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007492743; http://id.ndl.go.jp/bib/000007492743
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition

Table of Contents

固体ソース供給システムでハフニウム系ゲート絶縁膜を実現

SACVD酸化膜による電気性能の改善

極浅接合技術の傾向

SEMを使用した新しいウェーハ検査レシピ最適化法