CHF3 Plasma Treatment of Si Field Emitter Arrays For No Damage Vacuum Packaging.

• 資料種別: 記事
• タイトル: CHF3 Plasma Treatment of Si Field Emitter Arrays For No Damage Vacuum Packaging.
• 巻次・部編番号: 39; 7B
• 著者・編者: Nagao Masayoshi; Tanabe Hisao; Matsukawa Takashi; Kanemaru Seigo; Itoh Junji
• 著者標目: Nagao Masayoshi; Tanabe Hisao; Matsukawa Takashi; Kanemaru Seigo; Itoh Junji
• 出版年月日等: 2000
• 出版年（W3CDTF）: 2000
• タイトル（掲載誌）: Japanese Journal of Applied Physics
• 巻号年月日等（掲載誌）: 39 7B
• 掲載巻: 39
• 掲載号: 7B
• 掲載ページ: L755-L756
• ISSN（掲載誌）: 0021-4922; 1347-4065
• 件名標目: CHF<FONT SIZE="-1"><SUB>3</SUB></FONT> plasma; surface modification; vacuum sealing; field emitter; vacuum microelectronics
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.1143/jjap.39.L755
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 連携機関・データベース: 科学技術振興機構 : J-STAGE; http://www.jstage.jst.go.jp

• 要約等: Si field emitter arrays (FEAs) are promising cold cathodes for field emission displays (FEDs). The emission current from the Si FEAs, however, is know...