高速マグネトロンスパッタリングによる炭素薄膜の作製

• 資料種別: 記事
• タイトル: 高速マグネトロンスパッタリングによる炭素薄膜の作製
• 巻次・部編番号: 23; 4
• 著者・編者: 小西 暁夫; 細川 直吉; 安納 勝人; 平塚 一
• 著者標目: KONISHI Akio; 小西 暁夫; HOSOKAWA Naokichi; 細川 直吉; ANNOH Katsuto; 安納 勝人; HIRATSUKA Hajime; 平塚 一
• 出版年月日等: 1980
• 出版年（W3CDTF）: 1980
• 並列タイトル等: Preparation and Properties of Carbon Films with Magnetron Sputtering
• タイトル（掲載誌）: 真空; Shinku
• 巻号年月日等（掲載誌）: 23 4
• 掲載巻: 23
• 掲載号: 4
• 掲載ページ: 189-191
• ISSN（掲載誌）: 0559-8516; 1880-9413
• 著者別名: KONISHI Akio; HOSOKAWA Naokichi; ANNOH Katsuto; HIRATSUKA Hajime
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.3131/jvsj.23.189
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 連携機関・データベース: 科学技術振興機構 : J-STAGE

• 要約等: 基板の種類により炭素膜は, 煤状になったり平滑状になったりすることがわかった.これは基板下地の単なる平滑性の影響なのか, 材質的影響なのか判明できていない.<BR>スパッタ炭素膜の自然剥離は膜に比較的大きな圧縮応力が生ずる為であるように思われる.自然剥離の進行状況は森崎等の報告と酷似している.高圧下...