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光またはプラズマ励起酸素原子による低温酸化と多結晶Si薄膜トランジスタへの応用 (小特集 最新の酸化膜作製技術とその応用)

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光またはプラズマ励起酸素原子による低温酸化と多結晶Si薄膜トランジスタへの応用(小特集 最新の酸化膜作製技術とその応用)

国立国会図書館請求記号
Z16-474
国立国会図書館書誌ID
6969143
資料種別
記事
著者
中田 行彦ほか
出版者
東京 : 日本真空協会
出版年
2004-05
資料形態
掲載誌名
真空 = Journal of the Vacuum Society of Japan 47(5) 2004.5
掲載ページ
p.357~363
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
中田 行彦
東 和文
岡本 哲也 他
タイトル(掲載誌)
真空 = Journal of the Vacuum Society of Japan
巻号年月日等(掲載誌)
47(5) 2004.5
掲載巻
47
掲載号
5
掲載ページ
357~363