AFMマスクリペア加工のインプロセスで動作可能なナノパーティクル除去装置の開発

• 資料種別: 記事
• タイトル: AFMマスクリペア加工のインプロセスで動作可能なナノパーティクル除去装置の開発
• 巻次・部編番号: 2006A; 0
• 著者・編者: 浅尾 俊彦; 秋山 幸太郎; 佐々木 彰; 岩田 太
• 著者標目: Asao Toshihiko; 浅尾 俊彦; Akiyama Kotaro; 秋山 幸太郎; Sasaki Akira; 佐々木 彰; Iwata Futoshi; 岩田 太
• 出版年月日等: 2006
• 出版年（W3CDTF）: 2006
• 並列タイトル等: In-process cleaning method of nano meter scale particles under AFM scratching fabrication
• タイトル（掲載誌）: 精密工学会学術講演会講演論文集; Proceedings of JSPE Semestrial Meeting
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2006A 0
• 掲載巻: 2006A
• 掲載号: 0
• 掲載ページ: 923-924
• 著者別名: Asao Toshihiko; Akiyama Kotaro; Sasaki Akira; Iwata Futoshi
• 件名標目: atomic force microscope; 原子間力顕微鏡; in-process; インプロセス; cleaning; 加工粉除去
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.11522/pscjspe.2006A.0.923.0
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 連携機関・データベース: 科学技術振興機構 : J-STAGE; http://www.jstage.jst.go.jp

• 要約等: 現在、原子間力顕微鏡によるスクラッチ加工を用いたフォトマスク修正装置が実用化されている。しかし従来の原子間力顕微鏡を用いたスクラッチ加工では、加工の際に発生する加工粉が、加工部表面に付着し残留してしまうという問題がある。また、加工粉が探針に付着し、試料との間で噛み込みを起こしてしまうことで、加工精度...