AFMマスクリペア加工のインプロセスで動作可能なナノパーティクル除去装置の開発

• Material Type: 記事
• Title: AFMマスクリペア加工のインプロセスで動作可能なナノパーティクル除去装置の開発
• Volume: 2006A; 0
• Author/Editor: 浅尾 俊彦; 秋山 幸太郎; 佐々木 彰; 岩田 太
• Author Heading: Asao Toshihiko; 浅尾 俊彦; Akiyama Kotaro; 秋山 幸太郎; Sasaki Akira; 佐々木 彰; Iwata Futoshi; 岩田 太
• Publication Date: 2006
• Publication Date (W3CDTF): 2006
• Alternative Title: In-process cleaning method of nano meter scale particles under AFM scratching fabrication
• Periodical title: 精密工学会学術講演会講演論文集; Proceedings of JSPE Semestrial Meeting
• No. or year of volume/issue: 2006A 0
• Volume: 2006A
• Issue: 0
• Pages: 923-924
• Alias of Author: Asao Toshihiko; Akiyama Kotaro; Sasaki Akira; Iwata Futoshi
• Subject Heading: atomic force microscope; 原子間力顕微鏡; in-process; インプロセス; cleaning; 加工粉除去
• Target Audience: 一般
• DOI: 10.11522/pscjspe.2006A.0.923.0
• Access Restrictions: インターネット公開
• Data Provider (Database): 科学技術振興機構 : J-STAGE; http://www.jstage.jst.go.jp

• Summary, etc.: 現在、原子間力顕微鏡によるスクラッチ加工を用いたフォトマスク修正装置が実用化されている。しかし従来の原子間力顕微鏡を用いたスクラッチ加工では、加工の際に発生する加工粉が、加工部表面に付着し残留してしまうという問題がある。また、加工粉が探針に付着し、試料との間で噛み込みを起こしてしまうことで、加工精度...